（德国之声中文网）路透社报道，知情人士透露，韩国半导体公司SK海力士本规划要对旗下一中国大型工厂进行改造，但因为美国官员不希望让更多先进半导体设备进入中国而遭遇挑战。

SK海力士为全球第二大动态随机存取记忆体（DRAM）内存芯片大厂，从智能手机到数据中心的各个领域都有使用这种芯片。该公司原希望通过中国工厂的改造计划来提升其记忆体芯片的生产效率。

路透社报道，3位知情人士表示，SK海力士的生产计划要求公司以荷兰艾司摩尔（ASML）的最新极紫外光（EUV）光刻机来为其在中国无锡工厂的一个芯片量产设施进行升级。

ASML的光刻机对最先进半导体的制造来说是不可或缺的设备。中国政府对此曾向荷兰交涉，要求对方出售给中国。对此，美国在前总统特朗普时期便开始向荷兰施压，因美国认为这些先进设备运至中国后可能被用于强化该国的军事力量。

《华尔街日报》7月报道，2019年时任副国家安全顾问库珀曼（Charles Kupperman）曾邀请荷兰驻美大使至白宫，并对他说：“好的盟友不会向中国出售这种类型的设备。”他并告诉荷兰大使，如果没有美国的部件，ASML的机器就无法运作，而白宫有权向荷兰限制这些部件的出口。

拜登政府则延续了这项政策。在拜登就职后不到一个月，其国家安全顾问沙利文（Jake Sullivan）就美荷两国的“先进技术合作”与荷兰的同行进行了交谈。《华尔街日报》报道，美国官员说，继续限制ASML与中国的业务是沙利文待办事项的首要任务之一。

路透社报道，一位白宫高级官员拒绝评论美方官员是否会允许SK海力士将EUV光刻机带进中国。但这位官员告诉路透，拜登政府仍然专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造，避免协助中国军事发展。

SK海力士担心落后竞争对手

SK海力士位于无锡的工厂对全球电子行业至关重要，因它生产了该公司约半数的记忆体芯片，占全球总量的15%，任何重大变化都可能对全球记忆体市场产生影响。分析公司IDC称，光是2021年，全球记忆体市场的需求就将增长19%。

路透社引述一位了解SK海力士在中国运营情况的消息人士称，随着2到3年后新型芯片在SK海力士的生产中占据更大份额，该公司势必要透过EUV光刻机来控制其成本、进一步加速生产。

SK海力士担心，如果这种情况在未来几年内得不到解决，SK海力士可能会在与其他主要竞争者三星和美国美光半导体（Micron）等对手的竞争中处于不利地位。三星和美光也都在转向使用ASML的EUV光刻机。

据两位知情人士称，艾司摩尔EUV光刻机的问题在SK海力士内部引起了足够的关注，SK海力士会长李锡熙（Lee Seok-hee）7月访问华盛顿特区时，也曾向美国官员提出了这个问题。但就光刻机导入无锡工厂一事，SK海力士不予置评。该公司向路透社说，SK海力士根据各种市场环境灵活运作，正在尽最大努力应对市场和客户的需求。

ASML一位发言人则称，该公司遵守所有的出口管制法律，将其视为政府确保国家安全的“有效工具”。但该公司也表示，过度使用这些控制措施“可能会影响到为保持领先于半导体需求增长所需的产能”。

对此，半导体产业研究公司VLSI Research执行长赫奇森（Dan Hutcheson）说：“他们（SK海力士）真的被夹在了中国和美国中间。”他补充说，限制ASML的EUV光刻机输入中国的规则可能适用于任何位于中国的芯片制造工厂，无论那工厂是外资还是中资。

“不管谁把EUV光刻机引入中国，都会让中国具备这项能力，”赫奇森说，“一旦它到了那里，你不知道它之后会去哪里。中国人总是可以占有它或者做他们想做的任何事。”

（路透社、华尔街日报）

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